CrAlSi அலாய் ஸ்பட்டரிங் இலக்கு உயர் தூய்மை மெல்லிய பிலிம் Pvd பூச்சு தனிப்பயனாக்கப்பட்டது

குரோனியம் அலுமினியம் சிலிக்கான் ஸ்பட்டரிங் இலக்குகளின் புனையமைப்பு பின்வரும் படிகளை உள்ளடக்கியது:
1.படி கலவைகளைப் பெற சிலிக்கான், அலுமினியம் மற்றும் குரோனியம் வெற்றிட உருகுதல்.
2.பொடி அரைத்து கலக்குதல்.
3.குரோமியம் அலுமினியம் சிலிக்கான் அலாய் ஸ்பட்டரிங் இலக்கைப் பெற சூடான ஐசோஸ்டேடிக் அழுத்துதல் சிகிச்சை.
குரோனியம் அலுமினியம் சிலிக்கான் ஸ்பட்டரிங் இலக்குகள், அதன் உடைகள் எதிர்ப்பு மற்றும் அதிக வெப்பநிலை ஆக்சிஜனேற்ற எதிர்ப்பு ஆகியவற்றின் காரணமாக, படத்தின் செயல்திறனை மேம்படுத்துவதற்காக, வெட்டுக் கருவிகள் மற்றும் அச்சுகளில் பரவலாகப் பயன்படுத்தப்படுகின்றன.
CrAlSi இலக்குகளின் PVD செயல்பாட்டின் போது ஒரு உருவமற்ற Si3N4 கட்டம் உருவாகும்.உருவமற்ற Si3N4 கட்டத்தை இணைத்ததன் காரணமாக, தானிய அளவின் வளர்ச்சியை கட்டுப்படுத்தலாம் மற்றும் அதிக வெப்பநிலை ஆக்சிஜனேற்ற எதிர்ப்பு பண்புகளை மேம்படுத்தலாம்.