மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் இலக்குகளின் வகைப்பாடுகள் மற்றும் பயன்பாடுகள்

　　1. Magnetron sputtering முறை:

Magnetron sputtering DC sputtering, நடுத்தர அதிர்வெண் sputtering மற்றும் RF sputtering பிரிக்கலாம்

A. DC sputtering மின்சாரம் மலிவானது மற்றும் டெபாசிட் செய்யப்பட்ட படத்தின் அடர்த்தி மோசமாக உள்ளது.பொதுவாக, உள்நாட்டு ஒளிக்கதிர் மற்றும் மெல்லிய-பட மின்கலங்கள் குறைந்த ஆற்றலுடன் பயன்படுத்தப்படுகின்றன, மேலும் ஸ்பட்டரிங் இலக்கு கடத்தும் உலோக இலக்காகும்.

B. RF sputtering ஆற்றல் அதிகமாக உள்ளது, மற்றும் sputtering இலக்கு அல்லாத கடத்தும் இலக்கு அல்லது கடத்தும் இலக்காக இருக்கலாம்.

C. நடுத்தர அதிர்வெண் ஸ்பட்டரிங் இலக்கு பீங்கான் இலக்கு அல்லது உலோக இலக்காக இருக்கலாம்.

　　2. ஸ்பட்டரிங் இலக்குகளின் வகைப்பாடு மற்றும் பயன்பாடு

பல வகையான ஸ்பட்டரிங் இலக்குகள் உள்ளன, மேலும் இலக்கு வகைப்பாடு முறைகளும் வேறுபட்டவை.வடிவத்தின் படி, அவை நீண்ட இலக்கு, சதுர இலக்கு மற்றும் சுற்று இலக்கு என பிரிக்கப்படுகின்றன;கலவையின் படி, அதை உலோக இலக்கு, அலாய் இலக்கு மற்றும் பீங்கான் கலவை இலக்கு என பிரிக்கலாம்;வெவ்வேறு பயன்பாட்டுத் துறைகளின்படி, செமிகண்டக்டர் தொடர்பான பீங்கான் இலக்குகள், நடுத்தர பீங்கான் இலக்குகளை பதிவு செய்தல், பீங்கான் இலக்குகளை காட்சிப்படுத்துதல், முதலியனவாகப் பிரிக்கலாம். தகவல் சேமிப்புத் தொழில் போன்ற மின்னணு மற்றும் தகவல் தொழில்களில் ஸ்பட்டரிங் இலக்குகள் முக்கியமாகப் பயன்படுத்தப்படுகின்றன.இந்தத் தொழிலில், தொடர்புடைய மெல்லிய பட தயாரிப்புகளை (ஹார்ட் டிஸ்க், மேக்னடிக் ஹெட், ஆப்டிகல் டிஸ்க், முதலியன) தயாரிக்க ஸ்பட்டரிங் இலக்குகள் பயன்படுத்தப்படுகின்றன.தற்போது.தகவல் தொழில்துறையின் தொடர்ச்சியான வளர்ச்சியுடன், சந்தையில் நடுத்தர பீங்கான் இலக்குகளை பதிவு செய்வதற்கான தேவை அதிகரித்து வருகிறது.நடுத்தர இலக்குகளை பதிவு செய்வதற்கான ஆராய்ச்சி மற்றும் உற்பத்தி விரிவான கவனத்தின் மையமாக மாறியுள்ளது.