நாம் அனைவரும் அறிந்தபடி, வெற்றிட ஆவியாதல் மற்றும் அயன் ஸ்பட்டரிங் ஆகியவை பொதுவாக வெற்றிட பூச்சுகளில் பயன்படுத்தப்படுகின்றன.ஆவியாதல் பூச்சுக்கும் ஸ்பட்டரிங் பூச்சுக்கும் என்ன வித்தியாசம்?அடுத்து, RSM இன் தொழில்நுட்ப வல்லுநர்கள் எங்களுடன் பகிர்ந்து கொள்வார்கள்.
வெற்றிட ஆவியாதல் பூச்சு என்பது 10-2Pa க்கு குறையாத வெற்றிட அளவு கொண்ட சூழலில் எதிர்ப்பு வெப்பமாக்கல் அல்லது எலக்ட்ரான் கற்றை மற்றும் லேசர் குண்டுவீச்சு மூலம் ஒரு குறிப்பிட்ட வெப்பநிலைக்கு ஆவியாக வேண்டிய பொருளை வெப்பப்படுத்துவதாகும், இதனால் மூலக்கூறுகளின் வெப்ப அதிர்வு ஆற்றல் அல்லது பொருளில் உள்ள அணுக்கள் மேற்பரப்பின் பிணைப்பு ஆற்றலை மீறுகின்றன, இதனால் அதிக எண்ணிக்கையிலான மூலக்கூறுகள் அல்லது அணுக்கள் ஆவியாகின்றன அல்லது விழுங்குகின்றன, மேலும் அடி மூலக்கூறில் நேரடியாக வீழ்படிந்து ஒரு படத்தை உருவாக்குகின்றன.மின்புலத்தின் செயல்பாட்டின் கீழ் வாயு வெளியேற்றத்தால் உருவாக்கப்பட்ட நேர்மறை அயனிகளின் அதிவேக இயக்கத்தை அயன் ஸ்பட்டரிங் பூச்சு பயன்படுத்துகிறது தேவையான படம்.
வெற்றிட ஆவியாதல் பூச்சு மிகவும் பொதுவாக பயன்படுத்தப்படும் முறை எதிர்ப்பு வெப்பமாக்கல் ஆகும், இது எளிமையான கட்டமைப்பு, குறைந்த செலவு மற்றும் வசதியான செயல்பாட்டின் நன்மைகளைக் கொண்டுள்ளது;குறைபாடு என்னவென்றால், இது பயனற்ற உலோகங்கள் மற்றும் உயர் வெப்பநிலை எதிர்ப்பு மின்கடத்தா பொருட்களுக்கு ஏற்றது அல்ல.எலக்ட்ரான் கற்றை வெப்பமாக்கல் மற்றும் லேசர் வெப்பமாக்கல் எதிர்ப்பு வெப்பத்தின் குறைபாடுகளை சமாளிக்க முடியும்.எலக்ட்ரான் கற்றை வெப்பமாக்கலில், குவிக்கப்பட்ட எலக்ட்ரான் கற்றை குண்டுவீச்சு செய்யப்பட்ட பொருளை நேரடியாக வெப்பப்படுத்தப் பயன்படுகிறது, மேலும் எலக்ட்ரான் கற்றையின் இயக்க ஆற்றல் வெப்ப ஆற்றலாக மாறுகிறது, இது பொருள் ஆவியாகிறது.லேசர் வெப்பமாக்கல் அதிக ஆற்றல் கொண்ட லேசரை வெப்பமூட்டும் ஆதாரமாகப் பயன்படுத்துகிறது, ஆனால் உயர்-சக்தி லேசரின் அதிக விலை காரணமாக, தற்போது சில ஆராய்ச்சி ஆய்வகங்களில் மட்டுமே இதைப் பயன்படுத்த முடியும்.
ஸ்பட்டரிங் தொழில்நுட்பம் வெற்றிட ஆவியாதல் தொழில்நுட்பத்திலிருந்து வேறுபட்டது."Sputtering" என்பது சார்ஜ் செய்யப்பட்ட துகள்கள் திடமான மேற்பரப்பை (இலக்கு) குண்டுவீசி தாக்கி, திடமான அணுக்கள் அல்லது மூலக்கூறுகளை மேற்பரப்பில் இருந்து வெளியேற்றும் நிகழ்வைக் குறிக்கிறது.உமிழப்படும் பெரும்பாலான துகள்கள் அணு நிலையில் உள்ளன, இது பெரும்பாலும் sputtered அணுக்கள் என்று அழைக்கப்படுகிறது.இலக்கை தாக்க பயன்படுத்தப்படும் துகள்கள் எலக்ட்ரான்கள், அயனிகள் அல்லது நடுநிலை துகள்களாக இருக்கலாம்.அயனிகள் தேவையான இயக்க ஆற்றலைப் பெறுவதற்கு மின்சார புலத்தின் கீழ் முடுக்கிவிட எளிதானது என்பதால், அவற்றில் பெரும்பாலானவை அயனிகளை குண்டு வீசப்பட்ட துகள்களாகப் பயன்படுத்துகின்றன.ஸ்பட்டரிங் செயல்முறை பளபளப்பான வெளியேற்றத்தை அடிப்படையாகக் கொண்டது, அதாவது, வாயு வெளியேற்றத்திலிருந்து வரும் அயனிகள்.வெவ்வேறு ஸ்பட்டரிங் தொழில்நுட்பங்கள் வெவ்வேறு பளபளப்பான வெளியேற்ற முறைகளைப் பயன்படுத்துகின்றன.DC டையோடு sputtering DC க்ளோ டிஸ்சார்ஜ் பயன்படுத்துகிறது;ட்ரையோட் ஸ்பட்டரிங் என்பது சூடான கேத்தோடால் ஆதரிக்கப்படும் ஒரு பளபளப்பான வெளியேற்றமாகும்;RF sputtering RF பளபளப்பு வெளியேற்றத்தை பயன்படுத்துகிறது;Magnetron sputtering என்பது வளைய காந்தப்புலத்தால் கட்டுப்படுத்தப்படும் பளபளப்பான வெளியேற்றமாகும்.
வெற்றிட ஆவியாதல் பூச்சுடன் ஒப்பிடுகையில், ஸ்பட்டரிங் பூச்சு பல நன்மைகளைக் கொண்டுள்ளது.எடுத்துக்காட்டாக, எந்தவொரு பொருளையும், குறிப்பாக அதிக உருகுநிலை மற்றும் குறைந்த நீராவி அழுத்தம் கொண்ட தனிமங்கள் மற்றும் சேர்மங்கள் தெளிக்கப்படலாம்;sputtered படம் மற்றும் அடி மூலக்கூறு இடையே ஒட்டுதல் நல்லது;அதிக பட அடர்த்தி;ஃபிலிம் தடிமன் கட்டுப்படுத்தப்படலாம் மற்றும் மீண்டும் மீண்டும் நன்றாக இருக்கும்.குறைபாடு என்னவென்றால், உபகரணங்கள் சிக்கலானது மற்றும் உயர் மின்னழுத்த சாதனங்கள் தேவை.
கூடுதலாக, ஆவியாதல் முறை மற்றும் ஸ்பட்டரிங் முறை ஆகியவற்றின் கலவையானது அயன் முலாம்.இந்த முறையின் நன்மைகள் என்னவென்றால், பெறப்பட்ட படமானது அடி மூலக்கூறு, அதிக படிவு விகிதம் மற்றும் அதிக பட அடர்த்தி ஆகியவற்றுடன் வலுவான ஒட்டுதலைக் கொண்டுள்ளது.
இடுகை நேரம்: ஜூலை-20-2022