மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் இலக்கின் வகைகள் என்ன

இப்போது அதிகமான பயனர்கள் இலக்குகளின் வகைகளைப் புரிந்துகொள்கிறார்கள்அதன் பயன்பாடுகள், ஆனால் அதன் உட்பிரிவு மிகவும் தெளிவாக இருக்காது.இப்போது நாம்ஆர்எஸ்எம் பொறியாளர் உன்னோடு பகிர்கின்றேன்சில தூண்டல் மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் இலக்குகளின்.

ஸ்பட்டரிங் இலக்கு: உலோக ஸ்பட்டரிங் பூச்சு இலக்கு, அலாய் ஸ்பட்டரிங் பூச்சு இலக்கு, பீங்கான் ஸ்பட்டரிங் பூச்சு இலக்கு, போரைடு பீங்கான் ஸ்பட்டரிங் இலக்கு, கார்பைடு பீங்கான் ஸ்பட்டரிங் இலக்கு, ஃவுளூரைடு செராமிக் ஸ்பட்டரிங் இலக்கு, நைட்ரைடு பீங்கான், இலக்கு செராமிக் ஆக்ஸைடிலென் இலக்கு ide பீங்கான் sputtering இலக்கு, சல்பைட் செராமிக் ஸ்பட்டரிங் இலக்கு, டெல்லுரைடு செராமிக் ஸ்பட்டரிங் இலக்கு, பிற பீங்கான் இலக்குகள், குரோமியம் டோப் செய்யப்பட்ட சிலிக்கான் ஆக்சைடு செராமிக் இலக்கு (CR SiO), இண்டியம் பாஸ்பைடு இலக்கு (INP), ஈய ஆர்சனைடு இலக்கு (pbas), இண்டியம் ஆர்சனைடு இலக்கு (INAs).

Magnetron sputtering பொதுவாக இரண்டு வகைகளாகப் பிரிக்கப்படுகிறது: DC sputtering மற்றும் RF sputtering.DC sputtering உபகரணங்களின் கொள்கை எளிதானது, மேலும் உலோகத்தை sputtering போது அதன் விகிதம் வேகமாக உள்ளது.RF sputtering பரவலாகப் பயன்படுத்தப்படுகிறது.கடத்தும் தரவைத் தெளிப்பதைத் தவிர, இது கடத்தும் தரவைத் தெளிக்க முடியும்.ஆக்சைடுகள், நைட்ரைடுகள் மற்றும் கார்பைடுகள் போன்ற கூட்டுத் தரவைத் தயாரிக்க, வினைத்திறன் ஸ்பட்டரிங்க்கும் ஸ்பட்டரிங் இலக்கைப் பயன்படுத்தலாம்.RF அதிர்வெண் அதிகரித்தால், அது மைக்ரோவேவ் பிளாஸ்மா ஸ்பட்டரிங் ஆகிவிடும்.தற்போது, ​​எலக்ட்ரான் சைக்ளோட்ரான் ரெசோனன்ஸ் (ECR) மைக்ரோவேவ் பிளாஸ்மா ஸ்பட்டரிங் பொதுவாகப் பயன்படுத்தப்படுகிறது.